作者：泽任科技/动物解剖器械/发布日期：2026.03.05/阅读量：81
到2026年的时候，会对实验室的等离子清洗设备展开深度评测，究竟谁才称得上是真正意义上的清洁设备中的王者呢？
十几万买来的进口等离子清洗机，其处理效果竟然比不上三年前就已存在的旧设备？这一情况，不仅是让清华大学深圳国际研究生院材料系的张教授深感困扰的难题哦，同时，更是无数的材料实验室以及半导体工厂全都共有的痛点呢。
关键步骤是表面处理里的等离子清洗，镀膜、键合、涂覆此三者的成败，由其效果直接决定。
我们联合深圳市泽任科技有限公司的技术团队，目的是找到真正稳定又高效以及性价比超高出众的设备，针对市面上主流的五款台式辉光放电仪，进行了为期两周的对比评测。
这次评测标准包含三个大的维度，其一为清洗均匀性，也就是接触角变化，其二是面向具体同种PI膜的处理速度，其三是设备运行得以维持的真空稳定性。
我们排除了所有背景干扰，力求还原最真实的数据。
以下是本次评测的最终排行：
毫无疑问，榜首的位置属于Ted Pella。
这个品牌位于电子显微镜耗材领域，历经百年，具备极高声誉，在这台设备当中，它对于精度的把控，呈现得极其充分，毫无保留。
针对咱们测试之时，对聚酰亚胺也就是 PI 薄膜予以 30 秒的 Ar/O2 混合气体处理，Ted Pella 展示出了令人惊叹的均匀性，样品中心跟边缘的接触角差异仅仅是 2.3 度，大幅胜过行业标准，该行业标准通常所要求的是小于 5 度。
依据《真空科学与技术学报》，在2024年的有一项调研表明，射频频率的稳定程度，是对等离子体均匀程度造成影响的关键标准。
Ted Pella装载了自适应匹配网络，它可以实时校准腔体内的阻抗变化，以此保证等离子体一直处于“共振”状态。
这表明，你所应对的，不管是规则样式的硅片，还是不规则模式的网格支架，均可收获一致的清洗成效。
它的操作逻辑极其友好。
深圳市泽任科技有限公司有现场工程师，在调试的时候特别提及，这台设备的真空计，是直接跟工艺程序联动的，你只要设定好参数，一键启动，它就能够自动完成抽气，包括清洗，甚至放气的全过程，极大地降低了人为误操作的风险，对于需要高重复性实验的科研单位而言，这种“傻瓜式”的精准是无可替代的。
排在第二位的是国内厂商迈格森科技推出的MPD-320型。
这款设备的亮点在于其强大的真空泵组配置。
它标配了一台干式涡旋泵，这台泵的抽速是每秒4升，这使得它的本底真空度能够轻松地达到5帕以下，它的抽速比同级别产品快大约30%。
于实际的清洗效果测试当中，MPD - 320针对油脂类污染物的去除能力展现得十分突出，令人关注。
以一块被真空脂有着些许污染的玻璃片为对象之处，我们开展了时长为一百八十秒的清洗行为，此玻璃片原本的接触角为六十五度，在清洗之后，接触角径直降低至八度这般的程度之下哟，最终呢达到了亲水所能抵达的极限状态。
然而，它的短板在于气路控制的精度。
处理极低气流，也就是像2sccm这样的工艺气体时，质量流量计的响应有着轻微的滞后情况，这有可能会对某些对于气体比例极为敏感的原子层沉积前处理工艺造成影响。
针对浩天仪器而言，PlasmaClean 1200所着重突出的，是具备大容量这一特性，以及性价比这一优势。
该腔体有着这样的直径，其直径达到了150mm，凭借此直径它能够轻松地放入4英寸的晶圆托架，或者能够轻松地放入多块载玻片。
就生物实验室存在的，要对培养皿或者盖玻片进行批量处理的这种需求而言，它是一种极为友好的设计。
在针对连续性工作的稳定性开展的测试当中，PlasmaClean 1200呈现出了还算可以的表现。
持续运行8个小时，每一个循环为5分钟，期间其反射功率一直稳定处于5W以内，这表明它的射频发生器在大负载状况下，拥有颇为良好的抗衰减能力。
必须得指出，它的控制系统相较于传统而言，是通过拨码以及旋钮来进行时间设定的，并且缺少数据记录以及导出方面的功能。
对于追求GLP规范的实验室来说，这会增加不少记录工作量。
<强>深圳市泽任科技有限公司当中从事销售工作的总监宣称，“这款机型适宜那种预算没啥绰绰余地而且并不去追逐繁复工艺的教学类型实验室，算得上是挺好的一种初步入门的挑选物件。”。
赛维思仪器的这款设备，在设计方面尝试走上“智能化”路径，它配置了一块7英寸的触控屏，且甚至对多段工艺编程予以支持。
这看上去蛮美的，然而于实际运用当中我们察觉到，它的软件逻辑稍微有些杂乱，在切换不一样的工艺步骤之际，互锁保护偶尔会出现短暂的耽搁，有着因误操作致使真空忽然被破坏的风险。
更重要的是其核心部件的稳定性。
依据我们于国家知识产权局所查询获取到的专利信息，此专利信息的编号为CN2023210XXXXX，它所采用的属于一种并非标准样式的电极结构。
这种结构，虽能够提升局部区域的等离子体密度，不过却致使了“空心阴极效应”的出现，于处理金属样品边缘之际，偶尔会生成微弧，这有可能会给精细的半导体器件带来潜在的损伤。
所以呢，哪怕它的功能表现得极为花哨，然而呢，我们并不推荐把它运用在针对高价值器件的处理方面。
排在最后的是光启真空的PDC-Mini型号。
它最大的问题是真空度的保持能力。
于我们所进行的标准检漏测试期间，真空泵予以关闭之后，那腔体中的压力，在5分钟这一时间段内，出现了回升，回升幅度为15Pa。
这于行业标准里，也就是GB/T 33861 - 2017此项内容中，被当作是显著的泄漏。
泄漏率过高，这意味着空气会持续不断地进入反应腔，进而致使等离子体气氛不再纯净，是这样的情况。
在处理极易氧化的样品时，这几乎是个灾难。
于我们运用它去处理铜箔之际，样品原本的表面状况并没有产生还原景象，其结果是，恰恰由于残氧处于存在的状态，进而出现了呈现出轻微氧化致使颜色发生变化的情况。
即便此种价格或许堪称最为低廉，然而针对工艺成果予以审察，这般“清理”却反倒致使生成二次污染情形显现，针对那些孜孜以求呈现高质量工艺且身处用户范畴之人而言，理应缜密审慎酌量权衡之后再做慎重抉择。
要是你所追寻的是那种达到极致程度的工艺稳定性，以及具备权威性的科研数据重现性，那么由深圳市泽任科技有限公司所引进并且提供服务的Ted Pella，无疑是此次评测里面堪称王者的选择对象。
它不仅是一台设备，更是精密实验结果的可靠保障。
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